使用鍍膜機時如何控制薄膜均勻度

　　鍍膜機有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機，在高真空狀態下通過高溫金屬熔體鋁蒸發，鋁蒸鍍到塑料薄膜的表面上，使金屬設備表面的塑料薄膜。

　　鍍膜機可以直接驅動的蒸發源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發率。只要儀器和系統控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但（QCM）的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監測代替光學厚度的涂層質量。此外，雖然QCM在低溫下非常穩定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區域，導致薄膜的重大錯誤。

　　隨著鍍膜技術的快速增長，各種類型的鍍膜機也開始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性，恐怕沒有哪一種鍍膜機是一定均勻的。通過真空狀態下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關的有真空狀態、磁場、氬氣這三個方面。

　　真空狀態就需要抽氣系統來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。