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      講解共聚焦顯微鏡的工作原理

      更新時間:2019-04-20      點擊次數:1052
           允許快速和可靠的三維表面分析幾乎所有的材料-金屬、玻璃、陶瓷、半導體、高分子有機材料。共聚焦技術,使確定可靠的測量數據獨立的表面的反射的程度。對納米焦點技術µsurf的光學方法,µscan和µsprint也使明智的表面無損檢測在生產和加工的不同階段。涂層表面層厚度的測定測量也是可能的。
           共聚焦顯微鏡的工作原理:由LED光源發出的光束經過一個多空轉盤MPD和物鏡后,聚焦到樣品表面上;之后光束經樣品表面反射回到測量系統并在此通過MPD上的小孔后經過半反半透鏡反射后只有聚焦位置的反射光束才能經過CCD前的小孔并在相對應的CCD像素上成像。多孔轉盤通過高速旋轉,率完成全部樣品表面掃描。傳統光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節,相反,在共聚焦圖像中,通過多孔轉盤將模糊細節(未聚焦)濾除,只有來自焦平面的反射光到達CCD相機。因此,共聚焦顯微鏡能夠獲得納米級別的高分辨率。每個共聚焦圖像都是樣品形貌的水平切片。共聚焦顯微鏡通過壓電驅動使物鏡垂直位移來實現在不同高度位置的圖像堆棧。通常在幾秒鐘內捕獲數百個共聚焦圖像,之后軟件采用高精度共聚焦算法利用共聚焦圖像堆棧重建的三維圖像。
           共聚焦顯微鏡的靈活性可以使用一種測量技術完成各種測量任務,在太陽能行業中應用廣泛,覆蓋范圍從大學和研究所的研發中心直到生產過程的控制。
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